Reflektoren sind ein sehr wichtiger Bestandteil eines UV-Systems. 60% der Strahlen, die auf das Substrat treffen, kommen von den Reflektoren. Die geometrische Form und der Reflexionsgrad sind wichtige Merkmale, die die Leistung Ihrer Anwendung sicherstellen. Unsere Reflektoren bestehen aus 70 dünnen Metallschichten, die im Vakuum aufgebracht werden, um die Reflexion zu optimieren.
Je nach der thermischen Empfindlichkeit der zu behandelnden Substrate sind die UV-Systeme mit Reflektoren ausgestattet, die IR-Emissionen absorbieren oder nicht. Die URS-Reflektoren verfügen über die „Cold Mirror“-Technologie, da sie ein Minimum an IR-Strahlung auf Ihr Substrat übertragen. Die URS-A-Reflektoren hingegen sind so optimiert, dass sie neben UV-Strahlung auch ein Maximum an Wärme übertragen.
Durch die Kaltlichtspiegelgeneration URS ergibt sich eine beachtliche Leistungssteigerung an UV-Licht auf dem Substrat. Tests im Offset-, Flexo-, Sieb- sowie Buchdruck haben gezeigt, dass mit dem URS-Reflektor der Energieverbrauch reduziert werden kann und trotzdem vergleichbare Trocknungsergebnisse erzielt werden können.
Die URS-Technologie kann für unterschiedlichste Reflektorgeometrien angewandt werden. Diese Geometrien sind optimal auf den jeweiligen Produktionsprozess abgestimmt. Ein weiterer Vorteil des URS-Systems ist die Reduzierung der Infrarotstrahlung am Bedruckstoff. Dadurch wird die Verarbeitung selbst wärmeempfindlicher Materialien ermöglicht.
Vorteile
URS A Reflektoren wurden speziell für Anwendungen entwickelt, bei denen ein gezielter Wärmeeintrag in den Beschichtungs- bzw. Bedruckstoff vorgenommen wird, um so die Aushärtung von Farben und Lacken zu begünstigen.
Messergebnisse sowie der praxisbezogene Einsatz haben gezeigt, dass der Energieverbrauch im Vergleich zu herkömmlichen Aluminiumreflektoren deutlich reduziert werden kann. Ursache hierfür ist ein optimierter Reflektionsgrad im UV-Bereich.
Konstruktionsprinzip
Basis ist ein wasser- oder luftgekühltes Aluminiumprofil, das im Hochvakuum mit ca. 60 hauchdünnen Metalloxidschichten bedampft wird. Ziel ist es, ein Höchstmaß an UV-Leistung auf die Substratoberfläche zu leiten. Das Schichtsystem erlaubt eine gezielte Beimischung des Infrarotanteils der Strahlung. Je nach Produktionsprozess kommen unterschiedliche Reflektorgeometrien zum Einsatz.
Die URS-A-Reflektortechnologie zeichnet sich im Vergleich zu URS durch einen erhöhten Wärmeeintrag auf das Substrat aus.
